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高真空镀膜的基本原理及特点

文字:[大][中][小] 2015-11-30    浏览次数:450    

  在过去的几年里,真空镀铝膜在软包装的应用上有了大幅度的增长,其市场之所以得到迅速扩大,主要原因在于真空镀铝膜的技术因此及加工制造的经济因素、环保因素。

  1 . 高真空镀膜的基本原理

  高真空镀膜是指在高真空状态下,通过高温将铝线熔化蒸发,铝蒸发沉淀吸附在柔性材料表面,使这些表面具有金属光泽,形成一层保护层,具有技术上的特性,从而能够适合软包装最终产品的特定用途。

  需要蒸镀的薄膜材料放置在原料处,薄膜按照一定的方式穿过一系列的导辊,连接在收料轴上,放入密封的真空室中。采取三级真空泵抽真空,当真空室中的真空度达到lO-4Torr以上时,预先安装好的蒸发舟开始升温加热。达到1400oC以上后,铝线开始熔化蒸发,镀铝基材以400~600米/分的运行速度,通过布满来自蒸发舟上的铝蒸发的区域时,铝蒸发被吸附沉积在薄膜表面;经过镀铝的薄膜温度一般都很高,因此需要冷却,否则薄膜的形状和性质都会发生改变,给用户的使用带来意想不到的问题。因此,我们采用能达到-5oC~-10oC的冷却系统来冷却,经过冷却的镀铝膜的温度可控制在适当的范围内:我们采用红外线自动膜厚检测仪来检测镀铝膜的外观等其他指标。

  2 .  真空镀铝膜的特点

  (1)外观

  因为镀铝膜具有很高的金属光泽和良好的反射性,在软包装中使用镀铝膜,能够与油墨形成强烈的色彩反差。增加光线的反射,使包装产生非常夺目的光学效果,增加产品的美观程度。

  (2)阻隔性

  薄膜经过真空镀铝后,能大大提高薄膜材料的阻隔性,对于一些需要延长保存期的产品,使用真空镀铝膜的软包装是一个不错的选择。

  (3)低成本及良好的加工性能

  与铝箔相比,VMPET有较大的价格优势。成本只相当于铝箔的一半。

  镀铝薄膜基材具有良好的物理机械性能。在复合加工中不容易出现扭曲、皱折、断裂等现象,有利于提高生产效率和合格品率;镀铝膜具有导电性,在加工过程中可以避免因静电所造成的质量问题或故障,便于安全生产,特别是在包装粉状物品时,因为镀铝膜能够起到消除静电的作用,保证了封口性能的良好性。

  (4)符合环保要求

  镀铝产品消耗的主要能源是电力,在生产过程中不会产生废水、废气,作为残留物的氧化铝可以回收再利用。另外镀铝时,沉积在镀铝膜表面的铝非常少(一般只有350~400埃),因此可以认为没有改变其基材的本质。从环保的角度看,已镀过铝的薄膜可作为一种“单一材料”,所以它们可以更容易地被分裂,以循环生产或焚烧处理。


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